6 µm

Fabricação de dispositivos semicondutores

10 µm – 1971 6 µm - 1974 3 µm - 1977 1,5 µm - 1982 1 µm - 1985 800 nm - 1989 600 nm - 1994 350 nm - 1995 250 nm - 1997 180 nm - 1999 130 nm - 2001 90 nm - 2004 65 nm - 2006 45 nm - 2008 32 nm - 2010 22 nm - 2012 14 nm - 2014 10 nm - 2016 7 nm - 2018 5 nm - 2020

O processo de 6 μm é o nível de tecnologia de processo de semicondutor MOSFET que foi alcançado por volta de 1974, por empresas líderes de semicondutores, como a Toshiba e a Intel.

Referências

Precedido por: 10 µm

processos de fabricação CMOS

Sucedido por: 3 µm