Ficheiro:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

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Descrição
English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.
Data
Origem Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.
Autor Lawrence Livermore National Laboratory
Permissão
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atual18h19min de 22 de setembro de 2011Miniatura da versão das 18h19min de 22 de setembro de 2011713 × 605 (80 kB)Bomazi{{Information |Description ={{en|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} |Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

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