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10 µm

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Fabricação
de dispositivos
semicondutores

O processo de 10 μm é o nível de tecnologia de processamento de semicondutor MOSFET que foi comercialmente atingiu cerca de 1971,[1] por empresas de semicondutores principais tais como RCA e Intel.

Em 1960, o engenheiro egípcio Mohamed M. Atalla e o engenheiro coreano Dawon Kahng, enquanto trabalhavam na Bell Labs, demonstraram os primeiros transistores MOSFET com comprimentos de porta de 20 μm e, em seguida, 10 μm.[2] Em 1969, a Intel lançou o chip 1101 MOS SRAM com um processo de 12 μm.[3]

Referências

  1. «Microprocessors from 1971 to the Present | Microprocessor Types and Specifications | InformIT». www.informit.com. Consultado em 12 de dezembro de 2021 
  2. Bo., Lojek, (2007). History of semiconductor engineering. [S.l.]: Springer. OCLC 422743877 
  3. «Wayback Machine» (PDF). web.archive.org. 9 de agosto de 2007. Consultado em 13 de dezembro de 2021 


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