Ficheiro:CMOS fabrication process.svg

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English: Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale.
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altura

2 176 pixel

largura

512 pixel

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atual16h29min de 9 de outubro de 2011Miniatura da versão das 16h29min de 9 de outubro de 2011512 × 2 176 (7 kB)Cmglee{{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is

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